半導體工業(yè)純水設備工藝流程講解
文章作者: 宏森環(huán)保
眾所周知，半導體工業(yè)對于純水的水質(zhì)要求是及其嚴格的，大部分的電子產(chǎn)品，如計算機、移動(dòng)電話(huà)或是數字錄音機當中的核心單元都和半導體有著(zhù)極為密切的關(guān)聯(lián)， 因此無(wú)論從科技或是經(jīng)濟發(fā)展的角度來(lái)看，半導體的重要性都是非常巨大的。
今天來(lái)簡(jiǎn)單講解一下關(guān)于：半導體工業(yè)純水設備工藝流程;
半導體工業(yè)純水設備常采用的水處理工藝是電去離子EDI系統：
電去離子也就是常說(shuō)的EDI，EDI系統采用的是一種離子交換技術(shù)，子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結合的純水制造技術(shù)。
最新的水處理工藝流程(≥18MΩ.CM)：
原水預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對象。
傳統的水處理工藝流程(≥18MΩ.CM)：
原水預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水對象。
采用EDI系統制取純水的優(yōu)勢有：
1、EDI凈水設備具有連續出水;
2、設備在運行期間沒(méi)有加入化學(xué)藥劑，無(wú)需酸堿再生;
3、設備采用的是全自動(dòng)的控制模式，因此可達到無(wú)人值守;
4、設備安裝方便：EDI系統采用積木式結構，依據場(chǎng)地的高度和窨靈活地構造;
以上是小編整理的關(guān)于半導體工業(yè)純水設備工藝流程講解，如想了解關(guān)于半導體工業(yè)純水設備水質(zhì)為17MΩ.CM、15MΩ.CM等的水質(zhì)工藝流程可到宏森環(huán)保進(jìn)行詳細的資料查詢(xún)。
