電子光學(xué)用的超純水設備
文章作者: 宏森環(huán)保
電子光學(xué)泛指電子試劑、半導體、集成電路芯片加工、硅片清洗、光學(xué)鏡片、微電子工業(yè)、大規模集成電路、光電器件、液晶顯示器屏以及各種高精度線(xiàn)路板等產(chǎn)品的加工，在產(chǎn)品設備加工的過(guò)程中需用到大量的工業(yè)純凈水，如這些工業(yè)純凈水沒(méi)能達標不僅會(huì )直接影響到產(chǎn)品的使用情況而且還會(huì )影響使用壽命，下面了解一下關(guān)于電子光學(xué)用的超純水設備是一款?
不同的電子工業(yè)用到的純水電阻率要求不同，我國將電子工業(yè)所用的純水分為0.5MΩ/CM、12MΩ/CM、15MΩ/CM、18MΩ/CM四個(gè)等級。
對于一些半導體、集成電路芯片、液晶顯示器屏面清洗用水、電子試劑用水等用到的純水，如要求純水水質(zhì)電阻率的要求在18.2兆左右的超純水，則超純水設備需要進(jìn)行雙級反滲透純化水處理技術(shù)+EDI模塊系統相結合的形式，水處理流程：
原水箱—前置增壓泵—砂濾器—碳濾器—軟化器—精密過(guò)濾器—一級高壓泵—一級反滲透—一級純水箱—二級高壓泵—二級反滲透—二級純水箱—增壓泵—精密過(guò)濾器—紫外線(xiàn)殺菌—EDI系統—EDI超純水箱—超純水增壓泵—拋光混床—微孔膜濾器—用水對象。
設備能根據工廠(chǎng)每小時(shí)所用的純水水量、場(chǎng)地安裝、工藝設計進(jìn)行定制，在建設方所提供的相關(guān)技術(shù)資料以及技術(shù)要求做到無(wú)需加入任何的藥劑進(jìn)行連續性制取超純水，且設備的自動(dòng)化程度高、操作起來(lái)方便、出水穩定。
