半導體工業(yè)純水制取用的是反滲透工藝還是去離子
文章作者: 宏森環(huán)保
眾所周知，電子半導體工業(yè)對于純水的要求是極高的，水質(zhì)需達到一定的標準才可以使用，而隨著(zhù)市場(chǎng)上的純水設備型號越來(lái)越多，加工車(chē)間即使在確定了哪種型號以外，主要還是以水的處理工藝為主，不同的水處理工藝處理之后的純水水質(zhì)是不一樣的。
目前市場(chǎng)上常見(jiàn)的水處理工藝有：反滲透技術(shù)、雙極反滲透、去離子水技術(shù)、edi超純水等，半導體工業(yè)用的純水主要有反滲透以及反滲透工藝，那這兩個(gè)水處理工藝哪一種更適合。
反滲透水處理工藝可以去除水中96~99%左右的鹽物質(zhì)，通過(guò)反滲透膜來(lái)截留水中含有的有機物、細菌、離子、污染物等來(lái)達到水凈化的目的。
去離子水技術(shù)是通過(guò)交換樹(shù)脂去除水中的陰離子和陽(yáng)離子，但是水中仍然會(huì )存在部分的可溶性的有機物，因此這是一種可用于對水質(zhì)要求不是很高的工業(yè)制水。
宏森環(huán)保對半導體工業(yè)純水工藝采用的是反滲透水處理工藝和去離子技術(shù)相結合的方式，其純水水質(zhì)可達到18.2MΩ.CM。
水處理工藝的選擇除了跟用水的水質(zhì)有關(guān)以外還跟原水的水質(zhì)有關(guān)，具體水處理工藝流程直接到宏森環(huán)保進(jìn)行方案查詢(xún)。
